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BOURNS近日推出一系列新型桥型整流二极管产品，将专门应用于交流电(AC)直流电(DC)之转换，该公司特定型号CDTO269-BR1xL表面黏着桥型整流二极管，具有低功耗、高功效、低正向电压、高抗浪涌效能和高反向稳定性。 SER1410-202MED
该公司新款桥型整流二极管理想转换装置，为新一代的诸多设计提供较佳电源转换效率，且广泛运用于交换式电源供应器(SMPS)、桥型全波整流器、照明镇流器和电池充电装置。SER1410-202MED
现在的EUV光刻机使用的是波长13.5nm的极紫外光，而普通的DUV光刻机使用的是193nm的深紫外光，所以升级到EUV光刻机可以大幅提升半导体工艺水平，实现7nm及以下工艺。
但是改变波长之后再进一步提升EUV光刻机的分辨率就要从NA指标上下手了，目前的光刻机使用的还是NA=0.33的物镜系统，下一代的目标就是NA=0.5及以上的光学系统了。
如今ASML与IMEC合作的就是高NA的EUV工艺了，双方将成立一个联合实验室，在EXE：5000型光刻机上使用NA=0.55的光学系统，更高的NA有助于将EVU光源投射到更广阔的晶圆上从而提高半导体工艺分辨率，减少晶体管尺寸。
如今这项研究才刚刚开始，所以新一代EUV光刻工艺问世时间还早，此前ASML投资20亿美元入股蔡司公司，目标就是合作研发NA=0.5的物镜系统，之前公布的量产时间是2024年，这个时间点上半导体公司的制程工艺应该可以到3nm节点了。
桥型整流二极管因其拥有诸多优点，已成为高可靠性、小尺寸和降低成本的电源应用解决方案。 比起标准型整流二极管将提供更高的整流效率和变压器利用率(TUF)，客户只需要搭配简单的滤波电路，便能作为小功率变压器。 SER1410-202MED
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SMF05C-LF-T7
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BZT52C5V6T-7
BZT52C15T-7
BZT52C18-7-F
BZT52C6V2S-7-F
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